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PRODUCTS CNTER當(dāng)前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心C系列氣相沉積爐VVCgr-110/120-1600氣相沉積爐(立式)
氣相沉積爐(立式)是用于各種電介質(zhì),半導(dǎo)體和金屬材料的保護(hù)涂層的沉積的有力方式,無(wú)論是單晶,多晶,無(wú)定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳,碳化硅,氮化硼。通過(guò)使用合成前體,涂層非常純凈并目滿足半導(dǎo)體工業(yè)的典型要求,根據(jù)工藝參數(shù),可以有多種層厚度,從單個(gè)或幾個(gè)原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護(hù)層或功能層,以及厚度達(dá)100微米的單片部件,甚至高達(dá)數(shù)毫米。
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熱誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積(英語(yǔ):chemical vapor deposition,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導(dǎo)體和金屬材料的保護(hù)涂層的沉積的有力方式,無(wú)論是單晶,多晶,無(wú)定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳,碳化硅,氮化硼。通過(guò)使用合成前體,涂層非常純凈并目滿足半導(dǎo)體工業(yè)的典型要求,根據(jù)工藝參數(shù),可以有多種層厚度,從單個(gè)或幾個(gè)原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護(hù)層或功能層,以及厚度達(dá)100微米的單片部件,甚至高達(dá)數(shù)毫米。
熱誘導(dǎo)的化學(xué)氣相滲透(英語(yǔ):chemical vaporinfiltration,CVI)是一個(gè)與CVD有關(guān)的技術(shù),以在基體材料滲入多孔或纖維預(yù)成型件以制備由復(fù)合材料制成的部件具有改善的機(jī)械性能,耐腐蝕性,耐熱沖擊性和低殘余應(yīng)力。
二、技術(shù)特點(diǎn):
1.采用立式、底/頂開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu):裝、卸料精度高,操作方便;
2.采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動(dòng)范圍??;
3.溫度均勻性好:平均溫度均勻性為±5℃;
4.采用多通道沉積氣路,流場(chǎng)均勻,無(wú)沉積死角,沉積效果好;
5.全封閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng);
6.安全性能好:采用HMI+PLC+PID程序控溫制,安全可靠;
7.對(duì)沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點(diǎn)粘性產(chǎn)物能進(jìn)行有效處理;
8.多級(jí)高效尾氣處理系統(tǒng),環(huán)境友好,能高效收集焦油及副產(chǎn)物,易清理;
9.采用設(shè)計(jì)防腐蝕真空機(jī)組,持續(xù)工作時(shí)間長(zhǎng),維修率極低。
三、設(shè)備規(guī)格:
產(chǎn)品編號(hào) | 產(chǎn)品型號(hào) | 有效區(qū)尺寸(mm) | 冷態(tài)極限真空度(Pa) | 最高工作溫度(℃) | 適用工藝 |
C4VGR16 | VVCgr-56/60-1600 | Φ560x600 | 1 | 1600 | CVD/CVI |
C6VGR16 | VVCgr-84/90-1600 | Φ840x900 | 1 | 1600 | CVD/CVI |
C8VGR16 | VVCgr-110/120-1600 | Φ1100x1200 | 1 | 1600 | CVD/CVI |
C10VGR16 | VVCgr-140/200-1600 | Φ1400x2000 | 1 | 1600 | CVD/CVI |
四、氣相沉積爐(立式)展示圖:
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